當前成熟的 CVD 金剛石膜的生長方法主要有熱絲CVD 法、微波等離子體 CVD法、直流等離子體噴射CVD法等。熱絲 CVD 法雖然設備成本低，但燈絲容易斷、基本上生長一次需要換一次燈絲。而且燈絲一般為鎢絲，鎢高溫易揮發(fā)污染樣品，因此樣品質(zhì)量不高，大多數(shù)只能做工具級金剛石薄膜。直流等離子體噴射 CVD 法具有氣體溫度高、能量密度大、離化率高的特點，但是其耗電量大，大幅增加了生產(chǎn)成本。微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）法具有放電區(qū)集中、無污染、工作穩(wěn)定、易于精確控制、沉積速率快、成膜質(zhì)量高等優(yōu)點。

1、工業(yè)領域

高品質(zhì)級大顆粒金剛石在工業(yè)領域具有廣泛的應用前景。例如，在磨削、切割、拋光等工藝中，高品質(zhì)金剛石工具可以提高加工效率、降低成本、延長使用壽命。此外，金剛石顆粒還可用于制備高速鋼、硬質(zhì)合金等復合材料，提高材料的性能

2. 珠寶首飾領域

高品質(zhì)的大顆粒金剛石在珠寶首飾領域具有極高的價值。金剛石的顏色、透明度、純凈度等因素決定了其觀賞價值和收藏價值。MPCVD法制備的金剛石具有優(yōu)異的物理性能和美觀的外觀，可用于制作高端珠寶首飾。

3. 科學研究領域

金剛石具有獨特的物理性質(zhì)，如高熱導率、高電導率、高硬度等，使其在科學研究領域具有廣泛的應用前景。MPCVD法制備的直徑4英寸、厚度2毫米的金剛石微波材料可用于為“人造太陽”全超導托卡馬克核聚變實驗裝置傳輸微波能量。

4. 半導體領域

金剛石具有優(yōu)異的導電性和熱導性，可用于制備半導體器件。MPCVD法制備的金剛石晶體具有較高的晶體完整性，有利于提高半導體器件的性能。

5. 光學領域

MPCVD技術制備的金剛石在光學領域也有廣泛應用。例如，MPCVD制備的大面積金剛石單晶和多晶，可用于光學級單晶、電子級、散熱片、微波窗口、激光窗口、THz窗口、化學電極等。

碳方程的50200A MPCVD設備在生長多晶產(chǎn)品方面優(yōu)勢顯著，設備采用915MHZ的微波頻率，單爐可生產(chǎn)8英寸多晶產(chǎn)品，若用于生產(chǎn)單晶金剛石，單爐能夠穩(wěn)定產(chǎn)出多達 489 片尺寸為 7*7mm 的單晶金剛石。設備運行功率方面，采用50KW大功率裝置，更大尺寸的多晶產(chǎn)品意味著更高的生產(chǎn)效率和更低的單位成本，能夠滿足客戶大規(guī)模生產(chǎn)的需求。同時，我們的設備在技術方面也有著諸多創(chuàng)新和突破，確保了產(chǎn)品的高質(zhì)量和穩(wěn)定性。有效降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品的市場競爭力。